Accesorii

China isi intensifica eforturile pentru a-si consolida autonomia in domeniul tehnologiilor pentru semiconductori.

Tara a fost in ultimii ani unul dintre principalii motoare ale investitiilor globale in industria semiconductorilor, potrivit publicatiei Newsswitch, si isi propune acum sa reduca dependenta de furnizorii externi in domenii esentiale precum sistemele de litografie, instrumentele EDA si materialele avansate.

Aceasta schimbare de directie are loc intr-un context international complicat, marcat de restrictiile impuse de Statele Unite asupra accesului Chinei la anumite tehnologii de varf.

Conform informatiilor citate, sanctiunile impuse de Washington au reprezentat un factor determinant in accelerarea procesului de localizare. Riscurile repetate de intrerupere a lanturilor de aprovizionare au determinat autoritatile chineze sa promoveze un model de dezvoltare "autocontrolata" a industriei semiconductorilor.

In acest cadru, mari companii din domeniu, precum SMIC si HiSilicon, joaca un rol central, beneficiind de sprijin guvernamental consistent. Extinderea capacitatilor de productie este conditionata de utilizarea intr-o proportie tot mai mare a echipamentelor produse local. In prezent, producatorii care dezvolta noi linii de fabricatie trebuie sa achizitioneze cel putin 50% din echipamente de la furnizori interni.

Obiectivul anuntat pentru 2027 este ambitios: cresterea ratei de localizare la 70% pentru echipamentele utilizate in procesele tehnologice mature.

Primele rezultate ale acestei strategii incep sa devina vizibile. In segmentul echipamentelor de curatare, surse din industrie indica o crestere semnificativa a prezentei furnizorilor locali.

In domeniul litografiei, compania SMEE a adus sistemele sale ArF de imersiune pentru procesul de 28 nm in faza de verificare. NAURA Technology Group, a inceput, in paralel, productia de masa pentru echipamente destinate tehnologiei de 28 nm in segmentul de gravare (etching). De asemenea, compania AMEC testeaza echipamente compatibile cu procesul de 14 nm in colaborare cu SMIC.

Aceste evolutii indica faptul ca industria locala incepe sa reduca decalajele tehnologice in zone considerate anterior dificile.

Unul dintre cele mai sensibile domenii ramane litografia EUV (extreme ultraviolet), considerata esentiala pentru productia celor mai avansate cipuri. Potrivit agentiei Reuters, China ar fi reusit sa asambleze un prototip de echipament EUV utilizand componente provenite din sisteme mai vechi ale companiei ASML.

Sursele citate sustin ca autoritatile chineze isi propun realizarea unor cipuri functionale cu ajutorul acestui prototip pana in 2028, desi anul 2030 este considerat de unii analisti drept un termen mai realist. Existenta unui astfel de prototip sugereaza ca nivelul de autosuficienta tehnologica ar putea fi atins mai rapid decat se anticipa.

Un alt aspect notabil este ritmul de validare a echipamentelor dezvoltate local. Potrivit Newsswitch, ciclurile de testare pentru tehnologiile chinezesti sunt, in unele cazuri, mai scurte decat cele pentru echipamentele straine, fiind finalizate adesea in aproximativ un an.

Eforturile nu se limiteaza insa la hardware. China urmareste sa reduca dependenta externa si in domeniul software-ului EDA, crucial pentru proiectarea circuitelor integrate.

Ansamblul acestor initiative indica o strategie coerenta si pe termen lung, orientata spre consolidarea autonomiei industriale intr-un sector considerat strategic. Intr-un context global caracterizat de tensiuni geopolitice si competitie tehnologica intensa, China isi propune sa isi intareasca pozitia in lantul valoric al semiconductorilor prin investitii sustinute si dezvoltarea accelerata a propriilor capabilitati tehnologice.

Articolul China accelereaza dezvoltarea propriei industrii de echipamente pentru cipuri apare prima data in Go4IT.